Ultra High Purity Fluoropolymer (PFA) Valves - 22 Series | #PV2208VN2FL08FL08T


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Ultra High Purity Fluoropolymer (PFA) Valves - 22 Series | #PV2208VN2FL08FL08T

UHP Fluoropolymer ultra clean valves are made from PFA and PTFE for semiconductor liquid applications including high concentration acids and bases, clear chemistries and slurries.


Especificaciones técnicas

  • Tipo de la cubierta del material: PVDF
  • Estilo de la conexión 2: Flare
  • Tamaño de la conexión 2: 1/2"
  • Tamaño de válvula (Pulgadas): 1/2"
  • Tamaño de la conexión 1: 1/2"
  • Estilo de la conexión 1: Flare
  • Material de la conexión: PFA Nut
  • Tamaño de la rosca de la conexión del alojamiento (pulg): 10-32
  • Opciones especiales: None
  • Accionamiento: Pnuematic-Normally Open
  • Material del cuerpo: PFA
  • Materiales del diafragma: Modified PTFE
  • Material del alojamiento: PVDF
  • Material del muelle: SS, Fluoropolymer Coated
  • Material del tornillo: SS
  • Presión de trabajo máxima: 80 psig
  • Presión de accionamiento: 60 to 100 psig
  • Temperatura de funcionamiento: 32 to 212 °F, 0 to 100 °C
  • Presión de prueba: 120 psig
  • Presión de rotura: 200 psig
  • Caudal: 2.3

Información del artículo

These new, ultra clean, fluoropolymer, manual and pneumatic valves offer increased flow and provide better seat sealing for enhanced, leak-free performance for greater safety. They are designed to deliver the highest flow in the smallest package available. Computational fluid dynamics software was utilized to maximize the flow through these valves. These ultra clean valves are for semiconductor liquid applications including high concentration acids and bases, clear chemistries and slurries. Other demanding markets can use these valves for their cleanliness and ability to carry highly corrosive chemicals.

Markets:
• Semiconductor processing
• Chemical Processing
• Analytical Equipment
• Laboratory

Features/Benefits:
• High cycle life in acids and slurry
• Compact footprint with a true lock-out, tag-out design (LOTO)
• Dual point seal provides double the sealing power (patent pending)
• Smooth bore and fully swept path, minimizes particle entrapment areas and prevents stagnation
• 100% leak tested
• Meets SEMI-F57-0301 Standards

Key Applications:
• Chemical Mechanical Polishing (CMP) Slurries
• Ultra high purity processes
• Clear chemistries for semiconductor processes
• Blender systems
• Cleaning systems

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